全球公认的杰出的模仿/混合信号晶圆代工厂X-FAB Silicon Foundries（“X-FAB”）今天宣告，在电阻隔技能范畴获得重大进展——X-FAB在2018年根据其先进工艺XA035推出针对稳健的分立电容或电感耦合器优化之后，现又在此平台上完成了将电阻隔元件与有源电路的直接集成。这是X-FAB对半导体制作工艺上的又一重大打破。这一集成办法使阻隔产品的规划灵活性更好，然后应对可再次出产的动力、EV动力系统、工厂自动化和工业电源范畴的新式机会。

  XA035根据350纳米工艺节点，很合适制作车用传感器和高压工业设备；XA035现在支撑的高压信号阻隔才能意味着即便在严苛的环境中也能坚持继续安稳的运转功能。该技能能制作契合AEC-Q100 0级规范和工业等级的巩固元件，如数字阻隔器、阻隔栅极驱动器和阻隔放大器IC。X-FAB供给全面的PDK，支撑一切首要EDA供货商全新及改善的工艺技能。

  “咱们看到电阻隔产品规划范畴客户对强壮代工解决方案的需求日渐增加，X-FAB在分立耦合器施行方面的高可靠性阻隔层也已投产数年。”X-FAB高压商品市场司理Tilman Metzger表明，“经过使用相同的工艺模块，咱们现可以在同一裸片上直接集成CMOS电路，然后为此类产品的规划打造更大灵活性。咱们也十分高兴看到客户的第一批集成型产品行将投产。”